上海微电子28nm光刻机股票(将在年底上海微电子推出28nm光刻机)

大家都知道,现在我国的制造芯片技术在该领域里依然是处在后面的位置,中芯国际等等一些小部分的晶圆代工厂即便可以大量的生产28/14毫米的工艺,但却依然是十分依靠美国的半导体设备的。在2020年的五月份,华为惨遭美国进一步的制裁以后,中芯国际以及台积电等等一些晶圆代工厂将没有办法对于华为海思在芯片代工的方面上使用到美国的半导体设备和技术,这让华为公司辛辛苦苦研发出来的海思芯片惨遭断供的境地。不久后,美国又将中芯国际列入到了实体清单里面,由此,中芯国际进口所需要的半导体设备受到了阻碍,这十分影响到了中芯国际发展先进制程工艺的进度。

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正是由于中国正处于如此的“危机”当中,我国应该要加大力度地去发展国产半导体设备。然而,在半导体制造产线当中,制造芯片最必不可少的重要设备当属于光刻机莫属了。然而在光刻机领域里已经被日本的佳能、尼康以及荷兰的ASML给垄断了技术。这三大巨头一起占领了市场百分之九十九的份额。特别是荷兰的ASML,则是一马当先地存在于高端的光刻机市场,而且还是现如今全球只有ASML能够做到EUV光刻机供应的厂商。

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即便是国产光刻机厂商的上海微电子之前已经对自己研发的光刻机进行了批量生产,要是说到技术的话还是距离外国的技术仍然十分之遥远的。依照上海微电子官网上的消息来看,上海微电子所能过实现批量生产的主要有两种系列,一个是 SSX600,而另一个是SSX500。然而,现阶段上海微电子利用其最先进的光刻机来制造出来的最为先进的芯片也就是达到90纳米而已。但是如果是ASML就能够使用最为先进的EUV光刻机制造出了3纳米的芯片。

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就在前一年的四月份,有某个地方的政府透露称,国产光刻机光源供应商计划在去年的年底要和整机单位携手完成对于28nm国产光刻机的集成工作。需要注意的是,这里的“28nm光刻机”的叫法不是正确的叫法,而是193纳米 ArF浸润式光刻机,其指的只是能够被用来制造出28纳米芯片的光刻机,而且爆料称该光刻机能够制造出7纳米的芯片。但又因为美国的半导体产业的制裁,该光刻机在批量生产的过程中遭到了延迟。

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